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光刻机被称为什么？
光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的种类可分为：接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。
光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，因此，世界上只有少数厂家掌握。
光刻机是属于什么科学？
光刻机涉及光学、机械、化学、数学等多学科。
整个光刻机的研发中涉及众多科学体系，比如光学、数学、有机化学、流体动力学、高分子物理学等。 *** 了精密光电设备、机械设备、仪器仪表、自动化技术、图像识别等多行业顶级技术。尤其像euv、duv光刻机内部近十万零部件都是 *** 了众多高科技公司的最先进技术。
光刻机是干什么用的？
制造芯片
光刻机是用来制造芯片的。光刻机又被称为掩膜对准曝光机，在芯片生产中用于光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备。光刻机决定了芯片的精密尺寸，设计师设计好芯片线路，在通过光刻机将线路刻在芯片上，其尺度通常在微米级以上。
光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备，因为其决定了一块芯片的整体框架与功能。
其实生产高精度芯片并不难，只是生产速度太慢，而光刻机能快速生产高精度的芯片，所以很重要。
简述光刻机的分类及优缺点？
1、接触式曝光（Contact Printing）
掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。
（1）软接触：就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面。
（2）硬接触：是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触。
（3）真空接触：是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式）。
缺点：光刻胶污染掩膜板；掩膜板的磨损，容易损坏，寿命很低（只能使用5～25次）；容易累积缺陷；上个世纪七十年代的工业水准，已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了，国产光刻机均为接触式曝光，国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光的产品化。
2、接近式曝光（Proximity Printing）
掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），Gap大约为0～200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10倍以上），图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛。
3、投影式曝光（Projection Printing）
在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。
优点：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影响减小。
光刻机就是光刻设备么？
光刻机就是光刻设备。
光刻设备不仅仅是光刻机，包括芯片制造上游的光刻机、刻蚀机、离子注入机子都是核心的设备。还有晶圆生产、切割、涂膜，晶圆测试设备，以及在芯片加工完成后的封装设备。还有像什么显影机、甩胶机、氧化炉、清洗机、外延炉、CVD设备、溅射台等设备。光刻机只是整个工艺链条中最重要的设备，但完成一颗芯片的制造需要很多设备一起工作。
光刻机是什么专业？
光刻机是属于电子技术专业。电子技术专业就业前很好，特别是当下的信息化自动化的社会，电子专业人才倍受欢迎。当然你要真正学到扎实的技术。因为电子技术内容比较广泛，有些还很深澳，不用心去学是不行的。总之等到你学成了，你就会发现一个美好的天地。
90纳米光刻机是什么概念？
应该来说90纳米光刻机指的是制程90纳米的光刻机。
制程工艺，就是通常我们所说的CPU的“制作工艺”，是指在生产CPU过程中，集成电路的精细度，也就是说精度越高，生产工艺越先进。在同样的材料中可以制造更多的电子元件，连接线也越细，精细度就越高，CPU的功耗也就越小。
90纳米算一个门槛比较低，而且功耗比较大的制程，多用于家用电器之类。
0.1nm光刻机是什么概念？
0.1nm光刻机现在根本做不出来，全世界最顶级的光刻机生产公司，荷兰的阿斯迈生产的euv极紫外光光刻机，所生产的芯片，也只能达到5纳米。现在世界上最先进的芯片制造公司，台积电也只能生产3纳米的芯片，并且还是在实验阶段，还无法大批量生产！
0.1nm光刻机，以现在的技术能力，根本生产不出来！